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| ブランド名: | aa&ss |
| モデル番号: | CQ-CS-10 |
| MOQ: | 1台 |
| 価格: | $7,000-$50,000 per unit |
| 支払い条件: | LC、T/T |
| 供給能力: | 4単位/月 |
10 m3/h RO EDI 水処理設備,半導体,製薬,実験室,エネルギー,表面処理,化学,食品および飲料産業用
詳細
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RO EDI 水処理設備 |
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AC200~400V幅の電圧入力,オプション |
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装置の電源: 1.5 〜 100 kW 選択可能 |
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純粋な水のTDS: 1−9ppm |
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超純水抵抗: 5 〜 18 MΩ |
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水生産能力: 1 〜 50 T/h |
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回収率:40~85% |
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スキッド式装置 |
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小規模な地面積 |
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要求に応じて使用可能 |
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監視なしの操作,完全自動運転,容易なメンテナンス |
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要求に応じた調整可能 |
統合されたスキー式純水と超純水処理システムを提供し,世界中の産業顧客に効率的で柔軟な水処理ソリューションを提供します.システムは2つのコア構成のモジュール式設計を採用: 前処理+逆オスモス (RO) システムにより,一般工業プロセス用の高純度水が安定して生産されます.予備処理+反 osmose+EDIシステムで 化学再生なしで 超純水を連続的に生成します電子機器,半導体,高級製薬などの分野における厳しい水質要件を完全に満たしています.
前処理装置は,多段階の精密フィルタリングプロセスを採用したシステムの長期安定な動作を確保するための鍵です.クォーツ砂フィルターは,まず懸浮粒子を除去し,ぼんやりを減らす活性炭フィルタは残留塩素,有機物質,その他の不純物を吸収し,その後水軟化剤は,スケーリングを防ぐためにカルシウムとマグネシウムイオンを効果的に除去します.そして最後にセキュリティフィルター (通常は5μm) は,コア膜モジュールに安全で清潔な入水を確保するための究極の障壁として機能します.
この機器の主要な利点は,高度に統合されたスキッドマウント設計にあります.すべてのコンポーネントは,工場で堅牢なベースにプリインストールされ,真のプラグアンドプレイ操作を達成します.設置作業の負担を大幅に削減する長期間の輸送と迅速な配備を容易にし,海外プロジェクトやスペースが限られた場所に特に適しています.我々は,様々な産業の様々な需要の特徴を完全に理解していますシステムの水生産能力は,実際のニーズに応じて完全に調整できます.時速数トンから数百トンまで.
このシステムは,PLCとオンライン水質モニタリングを備えた 知的完全自動制御で動作し,操作が簡単で安定性があり,信頼性があります. We select core components of internationally renowned brands and pipes & valves made of high-standard materials to ensure the equipment runs efficiently for a long time under different water source conditions worldwide継続的で経済的で高品質な水供給を保証します
電子機器と電力,バイオ医薬品,精密化学,実験室,表面処理,および他の産業に広く適用されています.信頼性の高い水処理パートナーです.
純水処理設備の技術仕様 10 T/h
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機器のモデル |
CQ-CS-10 (純水設備) / CQ-CCS-10 (超純水設備) |
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水生産能力 |
10 トン/h |
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入力電圧 |
AC200~400V |
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回復率 |
40~80% |
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周波数範囲 |
50/60Hz |
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動作モード |
24時間連続運転 |
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作業温度 |
1・35°C |
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飼料用水のTDS |
100~500ppm |
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製品水のTDS |
0~9ppm (純水設備) |
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製品の水抵抗性 |
超純水装置 (MΩ) |
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pH |
6・7だ5 |
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パイプライン インターフェース サイズ |
DN5065 |
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純重量 |
1500kg |
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設備の次元 |
4×2.5×2.5m |
適用範囲:
マイクロエレクトロニクスと半導体産業,高級製薬とバイオエンジニアリング,精密分析と科学研究ラボ,電気電力とエネルギー産業,表面処理と電圧塗装産業化学・加工産業,食品・飲料産業など
純水システム流量図
生水 (地表水,地下水,水道水)
↓
前処理 (クォーツ砂,活性炭,軟化樹脂,UFユニットなど)
↓
安全フィルター (フィルタリング精度1μm)
↓
逆オスモスシステム
↓
純粋な水
超純水システム流量図
生水 (地表水,地下水,水道水)
↓
前処理 (クォーツ砂,活性炭,軟化樹脂,UFユニットなど)
↓
安全フィルター (フィルタリング精度1μm)
↓
主要逆オスモスシステム
↓
副次逆オスモスシステム
↓
離子除去システム (EDI,磨き床など)
↓
超純粋な水
純水/超純水装置処理能力
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単一の排水処理容量 |
主な物質 |
除去率 |
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0.550 トン/h
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不有機物質 |
95~99.9% |
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マクロモレキュラー有機物 (>100~200ダルトン) |
>99% |
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バクテリア |
>990.5% |
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ウイルス |
>99.99% |
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粒子/コロイド |
100% |
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